NEB代理 , DNA修饰酶与克隆技术 , 克隆质粒 & DNA,ΦX174 RF II DNA#N3022L

产品资料 – DNA修饰酶与克隆技术 – 克隆质粒 & DNA

ΦX174 RF II DNA

#N3022L 150 μg

特性

• 常用的 DNA 底物
• 双链切刻环状 ΦX174 

浓度

1,000 μg/ml 

分子量/长度

3.5 x 106 Da/5,386 bp